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可滑動RTP爐OTF-1200X-4-RTP-SL是一種快速熱處理爐，采用紅外燈加熱和移動爐體快速冷卻，可獲得Z高升溫速率為100°C/s 、降溫速率為5°C/s。

1200℃單管滑動快速加熱冷卻爐OTF-1200X-80SL底部安裝一對滑軌，可手動進行爐體移動，Z高工作溫度達1200°C，加熱和冷卻速率在真空或者惰性氣體環(huán)境下可以達到10°C/s。為獲得Z快加熱，可預先加熱爐子到設定的溫度，然后移動爐子到樣品位置；為獲得Z快冷卻，可在樣品加熱后移動爐子至另一端，本機是低成本進行快速熱處理的理想設備。

1200℃雙管滑動式四通道混氣CVD系統(tǒng)OTF-1200X-4-C4LV是專門為在金屬箔表面生長薄膜而設計的，特別是應用在新一代能源——柔性金屬箔電極方面的研究。

生長納米線CVD爐OTF-1200X-4-NW是一種緊湊型CVD爐，專為生長各種納米線而設計，基片Z大3″。在法蘭的左側裝有一個小加熱器，可對輸入的氣體、液體、固體進行預加熱后進入 CVD 爐進行納米線的生長。其可滑動的樣品架使操作更為簡單。

800℃高壓爐OTF-1200X-HVHP-80是高溫高壓管式爐，爐管采用 SS310S鎳基合金鋼制作而成，兩端配有法蘭和閥門，專為在105 PSI高壓下使用，可在通入氧化或惰性氣體的氣氛下，處理特殊的化合物。

800℃雙溫區(qū)高壓爐OTF-1200X-II-HVHP-80是高溫高壓管式爐，爐管采用 SS310S鎳基合金鋼制作而成，兩端配有法蘭和閥門，專為在105 PSI高壓下使用，可在通入氧化或惰性氣體的氣氛下，處理特殊的化合物。本機采用PID方式進行控溫，每個溫區(qū)可獨立控制。