GSL-1800X-ZF4蒸發(fā)鍍膜儀是一款高真空的蒸發(fā)鍍膜儀，特別適合蒸鍍對氧較敏感的金屬膜（如Ti、Al 、Au等）和小分子的有機物。本機設有4個蒸鍍加熱舟，每個加熱舟都可獨立進行蒸鍍，加熱舟上方有一個可旋轉擋板，當其中一個加熱舟進行蒸鍍時擋板將其它三個鎢舟遮住，以防蒸鍍材料之間相互污染。若更改部分配置也可實現對有機材料的蒸發(fā)鍍膜，可滿足發(fā)光器件及有機太陽能電池方面的研究要求，是一款鍍膜效果理想且性價比較高的實驗設備。蒸發(fā)鍍膜儀腔底部配有5個水冷電極，在工作過程中可有效保護電極溫度不會因溫度過高而熔化，進而損壞電極。該機采用金屬腔室，具有*的真空度，真空度可達到5.0×10-7torr，樣品臺可對樣品進行加熱，加熱溫度為室溫-500℃，是進行高真空蒸發(fā)鍍膜的得力設備。1、真空控制單元全部集合在一個控制盒內。
2、采用獨立的蒸鍍電流控制器，操作方便快捷。
3、真空腔體設有1個KF40旁抽閥（直接與前級機械泵相連，提高效率）、1個CF150閘板閥（直接與分子泵相連）、1個KF16法蘭（安裝電阻規(guī)）、6個CF35法蘭（1個安裝電離規(guī)，1個安裝2芯電極，1個安裝膜厚儀）3個備用。
4、在腔體底部配有5個水冷電極，可支持4個蒸鍍加熱舟。
5、樣品臺安裝在腔體的頂部。
6、腔內可裝高分辨率的薄膜測厚儀，膜厚測量分辨率（鋁）為0.1Å。
7、可使用循環(huán)水冷機。