VTC-600G高真空磁控濺射儀

簡要描述：VTC-600G高真空磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。可選配多個(gè)靶槍，配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜

產(chǎn)品型號：
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間：2025-01-22
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產(chǎn)品簡介 VTC-600G高真空磁控濺射儀

VTC-600G高真空磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600G高真空磁控濺射儀可選配多個(gè)靶槍，配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備，特別適用于實(shí)驗(yàn)室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等。

主要特點(diǎn) VTC-600G高真空磁控濺射儀

可選配多個(gè)靶槍，配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜（靶槍可以根據(jù)客戶需要任意調(diào)換）。
可制備多種薄膜，應(yīng)用廣泛。
體積小，操作簡便。
整機(jī)模塊化設(shè)計(jì)，真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設(shè)計(jì)，可根據(jù)用戶實(shí)際需要調(diào)整。
可根據(jù)用戶實(shí)際需要選擇電源，可以一個(gè)電源控制多個(gè)靶槍，也可多個(gè)電源單一控制靶槍。

技術(shù)參數(shù) VTC-600G高真空磁控濺射儀

產(chǎn)品名稱	VTC-600G高真空磁控濺射儀
產(chǎn)品型號	VTC-600G
主要參數(shù)	1、結(jié)構(gòu)：臺式前開門結(jié)構(gòu)，后置抽氣系統(tǒng)。 2、極限真空：6.0X10-5Pa。 3、漏率：1h≤0.5Pa。 4、抽氣時(shí)間大氣至5.0X10-3約20分鐘。 5、真空泵組：機(jī)械泵+分子泵。 6、樣品臺:φ140、室溫-500℃、精度±1℃ （可根據(jù)實(shí)際需要提升溫度）自轉(zhuǎn)5rpm-20rpm內(nèi)可調(diào)。可根據(jù)客戶需求選配加裝偏壓功能，以實(shí)現(xiàn)更高質(zhì)量的鍍膜。 7、加氣系統(tǒng)：質(zhì)量流量計(jì)2路。（氬氣/氮?dú)飧饕宦罚?nbsp; 8、靶頭與樣品臺中軸線夾角為34° 9、靶頭數(shù)量：3個(gè)（互成120°）。 10、靶槍冷卻方式：水冷 11、靶材尺寸：φ2″，厚度0.1-5mm （因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同）
產(chǎn)品規(guī)格	12、產(chǎn)品規(guī)格： ·整機(jī)尺寸：700mm×852mm×1529mm；