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GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀是依據(jù)二極（DC）直流濺射原理設(shè)計(jì)而成的Z簡單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備，適用于實(shí)驗(yàn)室各種復(fù)合膜樣品的制備，以及非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極的制作。

GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀是依據(jù)二極（DC）直流濺射原理設(shè)計(jì)而成的Z簡單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備。本機(jī)特別之處是在一個(gè)真空室內(nèi)安裝了三個(gè)靶，旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)可依次在同一樣品上涂覆三種材料。因此，適用于實(shí)驗(yàn)室各種復(fù)合膜樣品的制備，以及非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極的制作。

GSL-1100X-SPC-16單靶等離子濺射儀是一款緊湊型的等離子濺射儀，可進(jìn)行金、鉑、銦、銀等多種金屬的濺射鍍膜，樣品直徑可達(dá)50mm，鍍膜厚度可達(dá)300?，特別適用于SEM樣品的鍍膜。

VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。配備有兩個(gè)靶槍，一個(gè)弱磁靶用于非導(dǎo)電材料的濺射鍍膜，一個(gè)強(qiáng)磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，且可使用的材料范圍廣

VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀配置三個(gè)靶槍，一個(gè)配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，兩個(gè)配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一款實(shí)驗(yàn)

VTC-600GC-AM連續(xù)式多腔室磁控濺射鍍膜系統(tǒng)是新自主研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備，主要由傳遞室和濺射鍍膜室兩部分組成，基片架可以在傳遞室和濺射室實(shí)現(xiàn)往復(fù)運(yùn)動(dòng)，由調(diào)頻電機(jī)控制，自動(dòng)同步運(yùn)行，且往復(fù)位置和運(yùn)動(dòng)速度均可以設(shè)定，兩室內(nèi)均有定位功能，可實(shí)現(xiàn)原點(diǎn)復(fù)位。可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。