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技術(shù)文章
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隨著科技的不斷進(jìn)步和工藝要求的不斷提高，旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)也在不斷發(fā)展和創(chuàng)新。未來，將向以下幾個(gè)方面發(fā)展：高精度化：通過引入更控制系統(tǒng)和傳感器技術(shù)，進(jìn)一步提高涂覆精度和均勻性。智能化：實(shí)現(xiàn)智能化控制和自適應(yīng)調(diào)整功能，以適應(yīng)不同材料和工藝要求的變化。環(huán)保節(jié)能：采用環(huán)保型材料和節(jié)能技術(shù)，降低生產(chǎn)過程中的能耗和排放。多功能化：集成更多的功能模塊和工藝步驟，實(shí)現(xiàn)一站式涂覆解決方案。在選擇旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)時(shí)，您可以考慮以...
2024-05-28
大家好，本期我們?yōu)榇蠹規(guī)淼氖恰柑沾苫宓漠愋吻懈睢?，敬請觀看！▼/前情提要/本期沈陽科晶小課堂為您講解陶瓷基板的異形切割！使用設(shè)備：STX-100QX金剛石曲線切割機(jī)▼/點(diǎn)擊觀看視頻/▼/小結(jié)/氧化鋁陶瓷基板切割取圓（直徑10/12.7mm），可編輯任意圖形，并可通過樣品疊層的方式大幅提高加工效率，同時(shí)滿足科研和生產(chǎn)兩大要求，歡迎各位客戶蒞臨或郵寄樣品到科晶實(shí)驗(yàn)室體驗(yàn)測試！歡迎后臺區(qū)留言！
/前情提要/本期科晶小課堂為您講解冷等靜壓機(jī)粉末成型使用設(shè)備：CIP-50MA電動冷等靜壓機(jī)/點(diǎn)擊觀看視頻//小結(jié)/我公司有多種尺寸的壓片機(jī)以及冷等靜壓機(jī)，歡迎各位客戶蒞臨或郵寄樣品到科晶實(shí)驗(yàn)室體驗(yàn)測試！歡迎后臺區(qū)留言！沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司于2000年5月創(chuàng)建。自第一臺SYJ-150低速金剛石切割機(jī)誕生以來，沈陽科晶便開始了以趕超國外同行、材料分析設(shè)備潮流為目標(biāo)的發(fā)展歷程。時(shí)至今日，已經(jīng)擁有涵蓋材料切割、研磨、拋光、涂膜、鍍膜、混合、壓軋、燒結(jié)、分析等領(lǐng)域以及相關(guān)耗材的...
實(shí)驗(yàn)設(shè)備：MSK-AFA-I流延涂覆機(jī)、ZKC-250真空樣品貯存器、DZF-6020真空干燥箱MSK-AFA-I流延涂覆機(jī)ZKC-250真空樣品儲藏罐D(zhuǎn)ZF-6020真空干燥箱圖1實(shí)驗(yàn)所用設(shè)備圖實(shí)驗(yàn)材料：液態(tài)硅膠、銅箔實(shí)驗(yàn)?zāi)康模菏褂昧餮油扛矙C(jī)將液態(tài)硅膠均勻涂覆在銅箔表面，用真空干燥箱在90℃的環(huán)境下將薄膜烘干，而后使用數(shù)顯千分尺測量烘干后薄膜的厚度和均勻性。實(shí)驗(yàn)過程：①原料混合：首先，將液態(tài)硅膠原料按1:1的比例混合好，混合后的液態(tài)硅膠內(nèi)充滿氣泡，將充滿氣泡的液態(tài)硅膠放入到...
【科晶小課堂】電弧熔煉爐制備鈦鋁合金/前情提要/本期科晶小課堂為您講解用電弧熔煉爐制備鈦鋁合金！實(shí)驗(yàn)材料：鈦、鋁使用設(shè)備：MSM20-7(非自耗)電弧熔煉爐/點(diǎn)擊觀看視頻//小結(jié)/MSM20-7(非自耗)電弧熔煉爐制備鈦鋁合金錠可定制不同尺寸、形狀坩堝，最大約200g（鈦)；并可選配吸鑄套件（直徑1～10mm）；真空封管套件（直徑5～30mm）；歡迎各位客戶蒞臨或郵寄樣品到科晶實(shí)驗(yàn)室體驗(yàn)測試！歡迎后臺區(qū)留言！/相關(guān)設(shè)備點(diǎn)擊查看/MSM20-7(非自耗)電弧熔煉爐SP-MSM3...
背散射電子衍射（EBSD）只發(fā)生在試樣表層幾十個(gè)納米的深度范圍,所以試樣表面的殘余應(yīng)變層(或稱變形層、擾亂層)、氧化膜以及腐蝕坑等缺陷都會影響甚至*抑制EBSD的發(fā)生,因此試樣表面的制備質(zhì)量很大程度上決定著EBSD測試結(jié)果的質(zhì)量。與一般的金相試樣相比，一個(gè)合格的EBSD樣品，要求試樣表面無應(yīng)力層、無氧化層、無連續(xù)的腐蝕坑、表面起伏不能過大、表面清潔無污染。EBSD試樣的典型尺寸是10mm×10mm到7mm×7mm之間,厚度不宜過厚，一般在1-3mm之間?？筛鶕?jù)實(shí)際情況，如銅鋅...
實(shí)驗(yàn)材料：尺寸為21×21㎜的陶瓷基片，基片形貌如圖1所示；該種陶瓷基片有一定的硬度，可用真空吸附的方式進(jìn)行固定。薄膜材料為用有機(jī)溶膠調(diào)和的具有一定粘度和流動性的金屬粉末。圖1實(shí)驗(yàn)所用基片圖實(shí)驗(yàn)?zāi)康模簩⒔饘俜勰┠z溶劑均勻涂敷到陶瓷片表面。實(shí)驗(yàn)設(shè)備：由沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司制造的VTC-100真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)和PCE-6等離子清洗機(jī)。圖2實(shí)驗(yàn)所用設(shè)備圖實(shí)驗(yàn)設(shè)備選用原因：VTC-100真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)操作簡單、清理方便，體積小巧。設(shè)備標(biāo)配3個(gè)不同大小的真空吸盤，可根據(jù)樣品尺寸不同...
實(shí)驗(yàn)材料：φ65×100㎜的一次性PS（聚苯乙烯系塑料）水杯圖1實(shí)驗(yàn)材料圖實(shí)驗(yàn)?zāi)康模簩S水杯切割從中間切開，并觀察切口形貌和切開的杯子變形情況。實(shí)驗(yàn)設(shè)備：STX-604金剛石線切割機(jī)、MTI-3040加熱平臺STX-604金剛石線切割機(jī)MTI-3040加熱平臺圖2實(shí)驗(yàn)所用設(shè)備圖實(shí)驗(yàn)耗材：樹脂陶瓷切割襯墊、石蠟棒、切割專用油、金剛石線樹脂陶瓷切割襯墊石蠟棒切割專用油金剛石線圖3實(shí)驗(yàn)所用耗材圖實(shí)驗(yàn)過程：樣品固定：將STX-604金剛石線切割機(jī)的載物塊和樹脂陶瓷切割襯墊一同放置到...
實(shí)驗(yàn)材料：鎳基單晶高溫合金圓棒試樣材料，樣品如下圖所示；圖1圓棒樣品圖實(shí)驗(yàn)設(shè)備：由沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司制造的SYJ-400劃片切割機(jī)、MTI-3040加熱平臺，實(shí)驗(yàn)設(shè)備如圖2所示；圖2實(shí)驗(yàn)所用設(shè)備圖實(shí)驗(yàn)?zāi)康模菏紫葘ⅵ?5㎜的圓棒試樣用SYJ-400劃片切割機(jī)切割成厚度為3㎜的圓片，然后用SYJ-400劃片切割機(jī)在3㎜厚的圓片試樣上切取7㎜×7㎜的方塊試樣。實(shí)驗(yàn)過程：將SYJ-400劃片切割機(jī)專用載樣塊、樹脂陶瓷墊塊及圓棒試樣一同放到加熱平臺進(jìn)行預(yù)熱。載樣塊、樹脂陶瓷墊塊...
金剛石帶鋸工作原理金剛石帶鋸采用電機(jī)驅(qū)動主動輪，鋸帶在主動輪帶動下，傳送給被動輪，使鋸帶進(jìn)行單向循環(huán)快速轉(zhuǎn)動，被切割材料則作往復(fù)直線運(yùn)動以達(dá)到切割的目的。為保持鋸帶運(yùn)行軌跡精確、平穩(wěn)、鋸帶不會左右串動，在載物臺上下的鋸帶兩側(cè)采用鋸帶導(dǎo)向擋板。對被切割部位鋸帶和樣品進(jìn)行冷卻液冷卻或水冷，以保證鋸帶切削過程中具有一定的穩(wěn)定性[1]。金剛石帶鋸加工方式的特點(diǎn)是按照帶鋸的規(guī)格的不同可鋸切不同規(guī)格的樣品。金剛石帶切割的優(yōu)勢金剛石環(huán)形帶鋸條是指利用*的電沉積工藝在優(yōu)選的環(huán)形基帶上，通過金...
第一節(jié)金相試樣的取樣一、金相試樣的取樣原則金相試樣取樣應(yīng)根據(jù)被檢測零件的檢驗(yàn)?zāi)康倪x擇有代表性的部位。同時(shí)還要考慮切取方法、檢驗(yàn)面的選擇及樣品是否需要裝夾或鑲嵌。金相試樣取樣標(biāo)準(zhǔn)如下：金相試樣的截取部位能清晰地反映被檢測材料的全部特性。科學(xué)實(shí)驗(yàn)、質(zhì)量檢驗(yàn)及社會調(diào)查普遍采用抽檢的取樣方式這在金相實(shí)驗(yàn)中不適用。金相試樣的選取直接關(guān)系到能否得到所要觀察的實(shí)驗(yàn)結(jié)果。截取試樣的部位必須能直接反應(yīng)被檢測材料或零件的特點(diǎn)，如果部位選擇不當(dāng)，對檢驗(yàn)結(jié)果正確與否會造成直接影響，錯(cuò)誤的取樣甚至?xí)?..
樣品要求：樣品不宜過大，過大的試樣需要進(jìn)行切割操作，切割后的樣品經(jīng)研磨、拋光和腐蝕后便可放到掃描電鏡中直接進(jìn)行觀察。切割設(shè)備：金屬的切割設(shè)備選用沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司生產(chǎn)的型號為SYJ-200外圓切割機(jī)，該設(shè)備切割金屬時(shí)切割速度快，切割后的金屬表面無熱灼傷，表面形態(tài)好。耗材：用來切割金屬的一般有SiC鋸片（一般切割有色金屬）、剛玉鋸片（一般切割黑色金屬）、全燒結(jié)金剛石鋸片（適用于絕大多數(shù)材料）切割輔助設(shè)備：沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司生產(chǎn)的MTI-3040加熱平臺，該設(shè)備操...
1.基片清洗設(shè)備：①前期簡單清洗：VGT-1620QTD超聲波清洗機(jī)（用于去除基片表面污漬）VGT-1620QTD超聲波清洗機(jī)VGT-1620TD超聲波清洗機(jī)②深層清洗：PCE-6等離子清洗機(jī)（達(dá)分子級的深層清洗，用于改善基片表面的親水性和濕潤性）、PCE-6V小型等離子清洗機(jī)（不僅可用于基片表面性質(zhì)的改善還可通氧氣進(jìn)行光刻膠清洗）、紫外線臭氧清洗：不需要任何溶劑的干式清洗技術(shù)，對基片沒有損傷（該法不適用于高分子基片）PCE-6等離子清洗機(jī)PCE-6V等離子清洗機(jī)PCE-22...
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